設備儀器
Product center
濕法清洗設備
首頁 > 設備儀器
濕法清洗設備
ACM Ultra C SAPS 單片清洗設備
ACM主要開展半導體設備研究、開發、設計、制造、銷售以及售后服務等業務，專注于濕法工藝設備，包括：無應力拋光設備，電化學鍍銅設備和單片兆聲清洗設備。盛美半導體設備設備擁有完善的自主產權和相關專利，目前申請超過140項國際及國內專利，并有超過60項已獲得授權。
- 資料說明
■ 
應用領域
■
CT（可選項）
用戶咨詢